乾燥装置

発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：京本直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-265591
公開番号（公開出願番号）：特開平8-122232
出願日： 1994年10月28日
公開日（公表日）： 1996年05月17日
要約：

【要約】【目的】基板試料上の液滴を乾燥させる際に不純物金属が基板中に拡散しないように基板自身を加熱することなしに液滴を乾燥させる。【構成】被乾燥液滴5の載ったSiウエハ4を設置する試料設置台1と、その上方に遠赤外線ランプ2を有し、試料設置台1と遠赤外線ランプ2の間に基板試料と同一材質(Si)のフィルタ3を配置する。フィルタ3は液滴5を効率よく乾燥させる波長の赤外線を透過させるが、Siウエハ4を加熱する波長の赤外線を除去するので、Siウエハ4を加熱することなしに液滴5をすばやく乾燥できる。

請求項（抜粋）：

被乾燥液滴を置載した基板試料を設置する為の試料設置台と、この試料設置台の上方に設けられた遠赤外線ランプとを有する乾燥装置において、前記試料設置台と前記遠赤外線ランプの間に前記基板試料と同一材質のフィルタを配置したことを特徴とする乾燥装置。

IPC (4件)：

G01N 1/28 , F26B 3/30 , G01N 23/223 , H01L 21/304 361

引用特許：

審査官引用 (3件)

ウエーハ分析器具
公報種別：公開公報出願番号：特願平4-303302 出願人：三菱マテリアル株式会社, 三菱マテリアルシリコン株式会社
特開平4-157789
特開平3-165031

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