特許
J-GLOBAL ID:200903091305313778

低級パラフィン系炭化水素からの芳香族炭化水素の製法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 三宅 正夫 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-026009
公開番号(公開出願番号):特開平7-206720
出願日: 1985年10月02日
公開日(公表日): 1995年08月08日
要約:
【要約】【目的】 C2-C5低級パラフィン系炭化水素から芳香族炭化水素を高収率かつ高選択率で製造できる触媒を提供する。【構成】 低級パラフィン系炭化水素をガリウムシリケート触媒(Si/Gaモル比15-25)の存在下で反応温度300ないし650°Cで処理することを特徴とする低級パラフィン系炭化水素からの芳香族炭化水素の製法。
請求項(抜粋):
低級パラフィン系炭化水素を次の組成(モル比)Si/Ga 15-25、OH-/SiO2 0.3-1.0、H2O/SiO2 30-100、R/R+アルカリ金属 0.05-0.15、NaCl/H2O 0.01-0.06、(式中Rは第4級アルキルアンモニウムカチオン、アルカリ金属はナトリウムまたはカリウムイオンである)を有するゲル生成物を水熱合成後、焼成して得られたガリウムシリケート触媒(Si/Gaモル比15-25)の存在下で反応温度300ないし650°Cで処理することを特徴とする低級パラフィン系炭化水素からの芳香族炭化水素の製法。
IPC (4件):
C07C 15/00 ,  B01J 29/87 ,  C07B 61/00 300 ,  C07C 2/76
引用特許:
審査官引用 (3件)
  • 特開昭60-032719
  • 特開昭59-098020
  • 特開昭59-098022

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