特許
J-GLOBAL ID：200903091313023304
溶射層を有するセラミック成形体の製造方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
恩田 博宣
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-123503
公開番号（公開出願番号）：特開平9-304335
出願日： 1996年05月17日
公開日（公表日）： 1997年11月28日
要約：
【要約】【課題】 セラミック成形体の溶射を施す面を容易に粗面化でき、しかもセラミック成形体と溶射層との間に溶射層より多孔質の部分が存在しない状態で溶射層を形成できる溶射層を有するセラミック成形体の製造方法を提供する。【解決手段】 セラミック生成形体6の状態でセラミック成形体11の溶射層形成面7となる部分を含む位置に可燃性の粗面材8が配置、押圧される。粗面材8が付着された状態でセラミック生成形体6が粗面材8と共に脱脂、焼成され、セラミック成形体11の表面は粗面材8が焼失した部分が粗面化された状態となる。そして、粗面化された表面を有するセラミック成形体11の溶射層形成面7に溶射が施され、セラミック成形体11の表面に直接溶射層が形成される。
請求項（抜粋）：
セラミック生成形体の少なくとも一部に可燃性の粗面材を配置、押圧する工程と、該セラミック生成形体を該粗面材と共に焼成する工程と、該焼成工程にて前記粗面材が焼失して粗面化された表面を有するセラミック成形体表面に溶射を施す工程とを備えたことを特徴とする溶射層を有するセラミック成形体の製造方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 27/46 325 L
, C04B 41/87 J
