特許

J-GLOBAL ID：200903091313321283

マイクロレンズ基板の製造方法

発明者： 岡田 訓明
出願人/特許権者： シャープ株式会社
代理人 (3件)： 西教 圭一郎 ,  杉山 毅至 ,  廣瀬 峰太郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-303379
公開番号（公開出願番号）：特開2005-070666
出願日： 2003年08月27日
公開日（公表日）： 2005年03月17日
要約：

【課題】 マイクロレンズに対して正確な位置に遮光膜を形成することができる遮光膜付きマイクロレンズ基板の製造方法を提供する。【解決手段】 マイクロレンズ506,507が形成されるレンズ形成基板148を形成し、そのレンズ形成基板148の厚み方向他方側103に感光性材料からなる遮光膜パターニング用レジスト層43を形成する。次にそのレンズ形成基板148の厚み方向一方側101から紫外線を照射し、マイクロレンズ506,507を透過させた処理光201を遮光膜パターニング用レジスト層43に照射して、遮光膜パターニング用レジスト層43の状態を部分的に変化させ、その変化状態に応じてブラックマトリクス40を形成する。これによってマイクロレンズ506,507のレンズ光軸と、ブラックマトリクス40に形成される開口140との中心を一致させることができ、マイクロレンズ506,507とブラックマトリクス40との位置合わせが不要となるとともに、ブラックマトリクス40をずれなく正確に形成することができる。【選択図】 図1

請求項（抜粋）：

透光領域が形成される遮光膜を有するマイクロレンズ基板の製造方法であって、 基板の厚み方向一方側にマイクロレンズを形成するレンズ形成工程と、 基板の厚み方向他方側に感光性材料から成る感光性樹脂層を形成する感光性樹脂層形成工程と、 基板の厚み方向一方側から処理光をマイクロレンズに透過させて、感光性樹脂層に処理光を照射して感光性樹脂層の状態を部分的に変化させ、その変化状態に応じて遮光膜を形成する遮光膜形成工程とを含むことを特徴とするマイクロレンズ基板の製造方法。

IPC (6件)：

G02B3/00 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/13357 ,  G03F7/20 ,  G03F7/40

FI (8件)：

G02B3/00 A ,  G02F1/13 505 ,  G02F1/1335 ,  G02F1/1335 500 ,  G02F1/1335 505 ,  G02F1/13357 ,  G03F7/20 501 ,  G03F7/40 521

Fターム (33件)：

2H088EA13 ,  2H088EA15 ,  2H088HA13 ,  2H088HA14 ,  2H088HA25 ,  2H088MA16 ,  2H091FA05Z ,  2H091FA29Z ,  2H091FA34Z ,  2H091FB04 ,  2H091FC10 ,  2H091FC26 ,  2H091FD04 ,  2H091FD05 ,  2H091FD06 ,  2H091FD12 ,  2H091LA13 ,  2H091LA15 ,  2H091LA16 ,  2H091MA07 ,  2H096AA28 ,  2H096BA05 ,  2H096HA23 ,  2H097BA01 ,  2H097BB01 ,  2H097BB03 ,  2H097CA12 ,  2H097FA09 ,  2H097FA10 ,  2H097GA50 ,  2H097JA02 ,  2H097LA15 ,  2H097LA17

引用特許：

出願人引用 (1件)

• 投影型カラー液晶表示装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平5-328805   出願人：シャープ株式会社