特許

J-GLOBAL ID：200903091323442852

投影光学系、露光装置、およびそれらの製造方法

発明者： 村上 研太郎 ,  畑田 仁志
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 山口 孝雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-169406
公開番号（公開出願番号）：特開2002-250865
出願日： 2001年06月05日
公開日（公表日）： 2002年09月06日
要約：

【要約】【課題】 他の収差を実質的に発生させることなく、平行平面状の補正部材の比較的少ない加工量で残存収差を良好に補正することのできる投影光学系。【解決手段】 第1面(M)の像を第2面(W)に投影する投影光学系(PL)。第1面と第2面との間の光路中に設定された第1補正部材(C1)と、第1補正部材と第2面との間の光路中に設定された第2補正部材(C2)とを備えている。第1補正部材の少なくとも一方の面および第2補正部材の少なくとも一方の面は、投影光学系に残存する少なくとも1つの種類の残存収差を分担しながら補正するために、所要の形状にそれぞれ加工されている。

請求項（抜粋）：

第1面の像を第2面に投影する投影光学系において、前記第1面と前記第2面との間の光路中に設定された第1補正部材と、前記第1補正部材と前記第2面との間の光路中に設定された第2補正部材とを備え、前記第1補正部材の少なくとも一方の面および前記第2補正部材の少なくとも一方の面は、前記投影光学系に残存する少なくとも1つの種類の残存収差を分担しながら補正するために、所要の形状にそれぞれ加工されていることを特徴とする投影光学系。

IPC (4件)：

G02B 13/24 ,  G02B 13/18 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/027

FI (5件)：

G02B 13/24 ,  G02B 13/18 ,  G03F 7/20 521 ,  H01L 21/30 515 D ,  H01L 21/30 516 A

Fターム (23件)：

2H087KA21 ,  2H087LA01 ,  2H087NA01 ,  2H087NA09 ,  2H087PA15 ,  2H087PA17 ,  2H087PB20 ,  2H087QA03 ,  2H087QA06 ,  2H087QA19 ,  2H087QA21 ,  2H087QA25 ,  2H087QA39 ,  2H087QA41 ,  2H087QA45 ,  2H087RA05 ,  2H087RA11 ,  2H087RA32 ,  2H087RA42 ,  5F046CB19 ,  5F046CB25 ,  5F046DA13 ,  5F046DB05