特許

J-GLOBAL ID：200903091343071630

基板の洗浄方法及びその装置

発明者： 平塚 豊 ,  藤川 伸之 ,  名嘉眞 学
出願人/特許権者： 株式会社ダン科学 ,  国際電気アルファ株式会社
代理人 (1件)： 武井 秀彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-194180
公開番号（公開出願番号）：特開2001-017930
出願日： 1999年07月08日
公開日（公表日）： 2001年01月23日
要約：

【要約】【課題】 噴射ノズルヘッドを基板をスピン回転させることなく、また洗浄液の飛沫を伴わず、半導体ウエハや液晶用基板の大型のものを1枚ずつ垂直方向に保持した状態で効率よく迅速に超音波洗浄する方法及び装置を提供することにある。【解決手段】 1枚の基板を垂直方向に保持した状態で浸漬するのに必要十分な内容積及び形状を有し、底面に超音波を発振する振動板が装着された薄型洗浄槽内の洗浄液に、前記振動板から超音波を上方向に発振させた状態下で、基板を垂直方向に保持して洗浄槽の内壁面に接触させない状態で、一定の下降速度で浸漬し、基板が完全に浸漬した後、直ちに前記下降速度と同じ速度で、基板を洗浄槽の内壁面に接触させない状態で、引き上げて液面上に取り出すことを特徴とする基板の洗浄方法。

請求項（抜粋）：

1枚の基板を垂直方向に保持した状態で浸漬するのに必要十分な内容積及び形状を有し、底面に超音波を発振する振動板が装着された薄型洗浄槽内の洗浄液に、前記振動板から超音波を上方向に発振させた状態下で、基板を垂直方向に保持して洗浄槽の内壁面に接触させない状態で、一定の下降速度で浸漬し、基板が完全に浸漬した後、直ちに前記下降速度と同じ速度で、基板を洗浄槽の内壁面に接触させない状態で、引き上げて液面上に取り出すことを特徴とする基板の洗浄方法。

IPC (4件)：

B08B 3/12 ,  H01L 21/304 642 ,  H01L 21/304 ,  H01L 21/304 643

FI (5件)：

B08B 3/12 D ,  H01L 21/304 642 E ,  H01L 21/304 642 D ,  H01L 21/304 642 B ,  H01L 21/304 643 Z

Fターム (16件)：

3B201AA03 ,  3B201AB24 ,  3B201AB40 ,  3B201AB42 ,  3B201BB04 ,  3B201BB23 ,  3B201BB84 ,  3B201BB85 ,  3B201BB87 ,  3B201BB92 ,  3B201BB93 ,  3B201CB01 ,  3B201CC01 ,  3B201CC12 ,  3B201CC21 ,  3B201CD22