特許
J-GLOBAL ID：200903091350260332
ホトマスクおよび位相差測定方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
小川 勝男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-014217
公開番号（公開出願番号）：特開平7-221005
出願日： 1994年02月08日
公開日（公表日）： 1995年08月18日
要約：
【要約】【目的】マスク内に測定パタンを配置し、実際に使用する装置を使用して簡単且つ精度良く位相差を求め、マスクの位相差管理をより高精度なものとする。【構成】マスク内に位相差を測定するためのパタンを配置し、パタンを焦点ずれ状態で転写して、光学顕微鏡等で測定する。【効果】位相差を簡便に測定でき、マスクの位相差を最適化する事により位相反転効果が十分に得られ、パタンの形状不良や解像不良を防止できる。
請求項（抜粋）：
露光光に対して不透明な領域と透明な領域とを含み、上記透明な領域に透過する光の位相差がおよそ180°となるような二種類の透明パタンを有するホトマスク内に、素子を構成するパタン以外に位相差測定用の透明パタンを配置した事を特徴とするホトマスク。
IPC (4件)：
H01L 21/027
, G01M 11/00
, G03F 1/08
, H01L 21/66
