特許
J-GLOBAL ID：200903091368850641
情報記録原盤の複製法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
瀧野 秀雄 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-028452
公開番号（公開出願番号）：特開平5-222567
出願日： 1992年02月14日
公開日（公表日）： 1993年08月31日
要約：
【要約】【目的】情報記録原盤の情報信号ピットが形成されたホトレジスト層の面に対する無電解メッキ層のつきまわり性を改善して、情報記録原盤を高精度で複製する方法を提供する。【構成】ガラス基板の面にポジ型ホトレジストを塗付乾燥したのちレーザ光線により信号を記録し、現像によりホトレジスト層にピットを形成して情報記録原盤を得、次いでこれに無電解メッキを施して導体化したのち電鋳により複製を行うにあたり、無電解メッキの前処理として信号記録面に該ホトレジストに感度を有する紫外線を照射したのち水洗しその後増感処理と活性化処理とを行う。
請求項（抜粋）：
ガラス基板の面にポジ型ホトレジストを塗付乾燥したのちレーザ光線により信号を記録し、現像によりホトレジスト層にピットを形成して情報記録原盤を得、次いでこれに無電解メッキを施して導体化したのち電鋳により複製を行うにあたり、無電解メッキの前処理として信号記録面に該ホトレジストに感度を有する紫外線を照射したのち水洗しその後増感処理と活性化処理とを行うことを特徴とする情報記録原盤の複製法。
IPC (4件)：
C25D 1/00 331
, C23C 18/18
, G11B 7/26 501
, C23C 18/20
