特許
J-GLOBAL ID：200903091393114020
ビーム応用装置
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
薄田 利幸
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-069037
公開番号（公開出願番号）：特開平8-264145
出願日： 1995年03月28日
公開日（公表日）： 1996年10月11日
要約：
【要約】【目的】電子線源、イオン線源等のビームと試料間の相対変位による振動を低減し、高精度、高分解能、低振動構造を有するビーム応用装置を提供する。【構成】除振台5上に配置した真空容器2内に試料を載置し移動する試料台6とビーム源8及びその光学系9、11を内部に含むカラム1を取り付けた装置において、真空容器2のカラム1とのと接続部2-1を平面曲線(子午曲線)をその内面の直線を軸として、上記軸の回りに回転してできる曲面を持つ回転殻で構成した。【効果】構造体の形状に回転殻を使用することにより、高い剛性と固有振動数を有する低振動構造体となり、ビームと試料間の相対変位が微少となる。
請求項（抜粋）：
ビーム源をもつカラムと、上記カラムに取り付けられた容器とをもつ装置において、上記カラムを上記容器に取付ける上記容器の上板部がその水平断面の内側空間面が上記容器の外側に向かって漸次減少する構造体で構成されたことを特徴とするビーム応用装置。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01J 37/16
, H01L 21/30 541 G
