特許

J-GLOBAL ID：200903091403354091

露光精度制御方法、装置および記録媒体

発明者： 富松 喜克
出願人/特許権者： 三菱電機株式会社
代理人 (1件)： 高田 守 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平10-348509
公開番号（公開出願番号）：特開2000-173897
出願日： 1998年12月08日
公開日（公表日）： 2000年06月23日
要約：

【要約】【課題】 光学条件を変えて二重露光することにより、位置精度を±15nm程度に追い込むことが可能な露光精度制御方法、装置および記録媒体を提供する。【解決手段】 1回目の露光を密パターンに適した光学条件A1、すなわち総露光量の30%〜40%という条件で露光する。この光学条件A1は、パターンサイズ、レジストにより変更して最適化を行うことができる。ウェーハの伸びを戻すためのクーリング、照明光学系の変更を行った後、疎パターンに適した光学条件B1、すなわち総露光量の70%〜60%という条件で露光する。位置ずれの要因であるレチクルスキャンステージの位置決め誤差が除かれ、クーリングによりウェーハの伸縮による誤差もさらに除くことができる。この結果、スループットを低下させることなく、解像度を向上させることが可能となる。

請求項（抜粋）：

ウェーハを露光装置のウェーハスキャンステージに載せる工程と、レチクルを前記露光装置のレチクルスキャンステージに載せる工程と、前記レチクルの位置決めを行う工程と、露光量を密レジストパターンに対する量に設定して、前記ウェーハを露光する第1露光工程と、前記ウェーハの伸びを戻すクーリングを行う工程と、露光量を疎レジストパターンに対する量に設定して、前記ウェーハを露光する第2露光工程とを備えたことを特徴とする露光精度制御方法。

IPC (2件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521

FI (2件)：

H01L 21/30 514 A ,  G03F 7/20 521

Fターム (13件)：

5F046AA13 ,  5F046BA03 ,  5F046CC01 ,  5F046CC03 ,  5F046CC13 ,  5F046CC18 ,  5F046DA02 ,  5F046DA26 ,  5F046DD06 ,  5F046EC05 ,  5F046ED05 ,  5F046FC04 ,  5F046FC06