レーザー処理装置および処理方法

発明者： ,
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-328770
公開番号（公開出願番号）：特開平6-152036
出願日： 1992年11月13日
公開日（公表日）： 1994年05月31日
要約：

【要約】【目的】量産性に優れ、高い精度のレーザー処理装置を提供する。【構成】レーザー装置および光学装置を試料を移動させるためのステージとは別の防振装置上に設置することによって、ステージの移動に伴う振動をレーザー装置および光学系に伝播しないようにし、よって、レーザーの安定性を高め、かつ、生産性を高める。

請求項（抜粋）：