特許
J-GLOBAL ID：200903091430169948
X線反射型マスク及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-127420
公開番号（公開出願番号）：特開平9-312252
出願日： 1996年05月22日
公開日（公表日）： 1997年12月02日
要約：
【要約】 (修正有)【課題】 パターンの欠陥がある場合でも、該欠陥を精度良く安定してリペアすることができるX線反射型マスク及びパターン欠陥のないX線反射型マスクの製造方法を提供する。【解決手段】 欠陥部を有するX線反射型マスク上にレジスト4を塗布し、さらに吸収体層の欠損にかかる欠陥部とマスクパターンの非形成領域において開口をそれぞれ有するレジストパターン4aを形成する工程と、前記開口部分にX線吸収体層3a,5aを形成する工程と、前記レジストパターン4aを除去する工程と、X線反射型マスク上に再びレジスト4を塗布し、さらに多層膜が露出していない欠陥部とX線吸収体層において開口をそれぞれ有するレジストパターン4bを形成する工程と、前記開口部分にあるX線吸収体層5a,3bと、前記レジストパターン4bを除去する工程を含む。
請求項（抜粋）：
少なくとも、基板上に形成されたX線反射多層膜と、該多層膜上に形成されたX線吸収体層とを備えたX線反射型マスクにおいて、前記X線吸収体層は、マスクパターンの形成領域にあるパターン状のX線吸収体層と、該マスクパターンの非形成領域にあるX線吸収体層とを有することを特徴とするX線反射型マスク。
IPC (6件)：
H01L 21/027
, B32B 7/02 103
, G02B 5/08
, G02B 5/26
, G03F 1/16
, G21K 1/06
H01L 21/30 531 M
, B32B 7/02 103
, G02B 5/08 C
, G02B 5/26
, G03F 1/16 A
, G21K 1/06 C
, G21K 1/06 D
