特許

J-GLOBAL ID：200903091430525388

光ディスク用プラスチック基板の製造方法

発明者： 遊佐 敦 ,  白井 睦智 ,  井内 信一郎 ,  堀田 隆
出願人/特許権者： 日立マクセル株式会社
代理人 (1件)： 武 顕次郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-336729
公開番号（公開出願番号）：特開平7-192321
出願日： 1993年12月28日
公開日（公表日）： 1995年07月28日
要約：

【要約】【目的】 射出成形により得られたプラスチック基板の光学特性を改善し、高記録密度かつ高C/Nの光ディスクを実現可能な光ディスク用プラスチック基板の製造方法を提供する。【構成】 射出成形法により作製された表面にプリフォーマットパターンを有する光ディスク用プラスチック基板に、該基板材料のガラス転移温度よりも15°C〜35°C低い温度雰囲気中で、5分間〜30分間のアニーリング処理を施す。基板材料としては、ポリカーボネート樹脂、ポリメチルメタクリレート樹脂、アモルファスポリオレフィン樹脂などを用いることができる。アニーリング処理時の加熱方法としては、温風による高温槽が一般的であるが、高周波による誘導加熱を利用することもできる。また、光ディスク用基板は水平或は垂直状態でもよいし、回転させるなど動いている状態でアニーリング処理してもよい。

請求項（抜粋）：

射出成形法により作製された表面にプリフォーマットパターンを有する光ディスク用プラスチック基板に、該基板材料のガラス転移温度よりも20°C〜30°C低い温度雰囲気中で、5分間〜30分間のアニーリング処理を施すことを特徴とする光ディスク用プラスチック基板の製造方法。

IPC (6件)：

G11B 7/26 521 ,  B29C 45/14 ,  B29C 71/02 ,  B29K 69:00 ,  B29L 11:00 ,  B29L 17:00

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 特開昭63-225941
  
• 特開昭58-151222