ヘキサフルオロプロペン、および随意に他のフッ素含有ハロゲン化炭化水素の製造方法

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：谷義一 (外2名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-552066
公開番号（公開出願番号）：特表2002-516888
出願日： 1999年06月02日
公開日（公表日）： 2002年06月11日
要約：

【要約】CF3CF=CF2と、随意にCF3CH2CF3およびCF3CHFCHF2から選択される少なくとも1種の化合物との製造方法が開示される。その方法は、式CX3CH2CHyX(3-y)の少なくとも1種のハロゲン化プロパンおよび/または式CX3CH=CHyX(2-y)のハロゲン化プロペンであり、ここで、各XはClまたはF、およびyは0,1または2(但し、その前駆体流の平均フッ素含量は分子あたり5以下のフッ素置換基であることを条件とする)である前駆体流を含む反応器供給物を、HFおよびCl2と、フッ素化触媒を含有するクロロフッ素化反応ゾーンにおいて接触させる工程、および約150°Cと400°Cの間の温度で操作して、HF、HCl、およびCClF2CClFCF3を含む式C3Cl2F6である少なくとも1種の化合物とCHF2CClFCF3を含む式C3HClF6である少なくとも1種の化合物を含有し、そして前駆体流の平均フッ素含量より多い、分子あたり少なくとも1のフッ素置換基である平均フッ素含量を有する前駆体供給物の反応生成物の混合物を含む反応ゾーン流出液を生成する工程を含む。そのクロロフッ素化反応ゾーン流出液は、蒸留されて(i)HCl(およびそれらが反応ゾーン流出液中に存在するとき、C3F8、C3ClF7、およびC3HF7)を含む低沸点成分と、(ii)CClF2CClFCF3を含む式C3Cl2F6である少なくとも1種の化合物、およびCHF2CClFCF3を含む式C3HClF6である少なくとも1種の化合物を含有する水素添加供給物成分と、(iii)少なくとも1種の塩素置換基および1から5のフッ素置換基を含有するハロゲン化プロパンを含むフッ素化不十分成分を生成する。水素添加供給物成分(ii)のCClF2CClFCF3およびCHF2CClFCF3は水素と反応して、CF3CF=CF2およびCF3CHFCHF2を含む混合物を生成し、そしてこの生成混合物からCF3CF=CF2は回収される。フッ素化不十分成分(iii)は、クロロフッ素化反応ゾーンに戻される。

請求項（抜粋）：

CF3CF=CF2と、随意にCF3CH2CF3およびCF3CHFCHF2から選択される少なくとも1種の化合物の製造方法であって、 (a)式CX3CH2CHyX(3-y)のハロゲン化プロパンおよび式CX3CH=CHyX(2-y)のハロゲン化プロペンから選択される少なくとも1種の化合物の前駆体流、ここで、各Xは独立してClおよびFから選択され、そしてyは0,1または2であり、但し、前記前駆体流の平均フッ素含量は分子あたり5以下のフッ素置換基であることを条件とする前駆体流を含む反応器供給物を、HFおよびCl2と、フッ素化触媒を含有するクロロフッ素化反応ゾーンにおいて接触させ、そして約150°Cと400°Cの間の温度で操作して、HF、HCl、およびCClF2CClFCF3を含む式C3Cl2F6である少なくとも1種の化合物とCHF2CClFCF3を含む式C3HClF6である少なくとも1種の化合物を含有し、そして前駆体流の平均フッ素含量より多い、分子あたり少なくとも1のフッ素置換基である平均フッ素含量を有する前記前駆体流の反応生成物の混合物を含む反応ゾーン流出液を生成する工程と、 (b)(a)の反応ゾーン流出液を蒸留して、(i)HCl、そしてそれらが反応ゾーン流出液中に存在するとき、C3F8、C3ClF7、およびC3HF7を含む低沸点成分と、(ii)CClF2CClFCF3を含む式C3Cl2F6である少なくとも1種の化合物、およびCHF2CClFCF3を含む式C3HClF6である少なくとも1種の化合物を含有する水素添加供給物成分と、(iii)少なくとも1種の塩素置換基および1から5のフッ素置換基を含有するハロゲン化プロパンを含むフッ素化不十分成分を生成する工程と、 (c)水素添加供給物成分(ii)のCClF2CClFCF3およびCHF2CClFCF3を水素と反応させて、CF3CF=CF2およびCF3CHFCHF2を含む混合物を生成する工程と、 (d)(c)の生成混合物からCF3CF=CF2を回収する工程と、 (e)フッ素化不十分成分(iii)をクロロフッ素化反応ゾーンに戻す工程と、を具えることを特徴とする製造方法。

IPC (7件)：

C07C 17/23 , C07C 17/00 , C07C 17/10 , C07C 17/20 , C07C 17/383 , C07C 19/08 , C07C 21/18

FI (7件)：

C07C 17/23 , C07C 17/00 , C07C 17/10 , C07C 17/20 , C07C 17/383 , C07C 19/08 , C07C 21/18

Fターム (10件)：

4H006AA02 , 4H006AC30 , 4H006AD11 , 4H006BA14 , 4H006BA16 , 4H006BA23 , 4H006BD40 , 4H006BD52 , 4H006BE01 , 4H006BE53

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