特許

J-GLOBAL ID：200903091447242959

シミュレーション方法

発明者： 小林 岳史
出願人/特許権者： ソニー株式会社
代理人 (1件)： 船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-033227
公開番号（公開出願番号）：特開平9-232246
出願日： 1996年02月21日
公開日（公表日）： 1997年09月05日
要約：

【要約】【課題】 複数の分布関数に対するパラメータフィッティングを正確にかつ容易に行うこと。【解決手段】 本発明のシミュレーション方法は、先ず、実測データを求め(ステップS1)、この実測データに基づき所定の関数から実測データの全体の分布を示すためのパラメータを算出し(ステップS2)、次に、全体の分布の中の一部分の分布におけるパラメータのフィッティングを行い一の分布のパラメータを得る(ステップS3)。次いで、実測データからこの一の分布を示すデータを差し引き(ステップS4)、これにより得られる他の分布と、一の分布とを連続させるようなパラメータのフィッティングを行う(ステップS5)。

請求項（抜粋）：

実測データに基づき所定の関数から成る分布のパラメータをフィッティングするシミュレーション方法であって、前記実測データに基づき前記所定の関数から該実測データの全体の分布を示すためのパラメータを算出する工程と、前記全体の分布を示すためのパラメータを用いて該全体の分布の中の一部分の分布におけるパラメータのフィッティングを行い一の分布のパラメータを得る工程と、前記実測データから前記一の分布を示すデータを差し引き、これにより得られるデータから前記全体の分布の中の他部分の分布におけるパラメータのフィッティングを行い他の分布のパラメータを得る工程と、前記一の分布のパラメータと前記他の分布のパラメータとを用いて、該一の分布と該他の分布とが連続した分布となるようパラメータのフィッティングを行う工程とから成ることを特徴とするシミュレーション方法。

IPC (3件)：

H01L 21/265 ,  G01R 31/302 ,  G06F 17/00

FI (3件)：

H01L 21/265 T ,  G01R 31/28 L ,  G06F 15/20 D