特許

J-GLOBAL ID：200903091455122458

ステージ装置とその位置制御方法および露光装置並びに露光方法

発明者： 田中 慶一
出願人/特許権者： 株式会社ニコン
代理人 (1件)： 志賀 正武 (外5名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-370190
公開番号（公開出願番号）：特開2002-175963
出願日： 2000年12月05日
公開日（公表日）： 2002年06月21日
要約：

【要約】【課題】 可動ステージが複数の方向に移動する場合であっても、回転力を含む、移動に伴う反力の影響を排除して可動ステージの位置制御性を維持する。【解決手段】 基板W1、W2を支持して移動する基板ステージWST1、WST2と、基板ステージWST1、WST2を移動可能に支持する定盤13とを備える。定盤13を移動可能に支持する支持装置12と、基板ステージWST1、WST2の移動に伴う反力により定盤13が移動した際の基板W1、W2の位置ずれ量に基づいて基板ステージWST1、WST2の位置を補正する制御装置を備える。

請求項（抜粋）：

基板を支持して移動する基板ステージと、該基板ステージを移動可能に支持する定盤とを備えたステージ装置であって、前記定盤を移動可能に支持する支持装置と、前記基板ステージの移動に伴う反力により前記定盤が移動した際の前記基板の位置ずれ量に基づいて、前記基板ステージの位置を補正する制御装置を備えることを特徴とするステージ装置。

IPC (4件)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 ,  H01L 21/68

FI (5件)：

G03F 7/20 521 ,  G03F 9/00 H ,  H01L 21/68 K ,  H01L 21/30 515 G ,  H01L 21/30 503 F

Fターム (41件)：

5F031CA02 ,  5F031CA05 ,  5F031CA07 ,  5F031HA13 ,  5F031HA53 ,  5F031HA55 ,  5F031HA57 ,  5F031JA01 ,  5F031JA02 ,  5F031JA06 ,  5F031JA14 ,  5F031JA17 ,  5F031JA32 ,  5F031JA51 ,  5F031KA06 ,  5F031KA07 ,  5F031KA08 ,  5F031LA03 ,  5F031LA04 ,  5F031LA06 ,  5F031LA07 ,  5F031LA08 ,  5F031LA10 ,  5F031MA27 ,  5F031NA02 ,  5F046AA23 ,  5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CC01 ,  5F046CC02 ,  5F046CC04 ,  5F046CC16 ,  5F046CC18 ,  5F046DA06 ,  5F046DA07 ,  5F046DA09 ,  5F046DB05 ,  5F046DC04 ,  5F046DC10 ,  5F046ED02 ,  5F046FC05