特許

J-GLOBAL ID：200903091460029598

水素透過構造体およびその製造方法

発明者： 上村 卓 ,  吉田 健太郎 ,  奥田 伸之 ,  日方 威
出願人/特許権者： 住友電気工業株式会社
代理人 (1件)： 深見 久郎 (外4名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-039745
公開番号（公開出願番号）：特開2002-239352
出願日： 2001年02月16日
公開日（公表日）： 2002年08月27日
要約：

【要約】【課題】 優れた水素透過性能を有し、かつ耐久性のあるコンパクトな水素透過構造体およびその製造方法を提供する。【解決手段】 本発明の水素透過構造体は、金属材料からなる多孔質の基材1と、その基材1表面の孔1a内に埋込まれ、かつ金属およびセラミックスの少なくともいずれかの微粒子よりなる埋込材3と、埋込材3で埋込まれた基材1の表面上に形成され、かつパラジウムを含有する水素透過性膜2とを備えている。

請求項（抜粋）：

金属材料からなる多孔質の基材と、前記基材表面の孔内に埋込まれた金属およびセラミックスの少なくともいずれかの微粒子よりなる埋込材と、前記埋込材で埋込まれた前記基材表面上に形成され、かつパラジウムを含有する水素透過性膜とを備えた、水素透過構造体。

IPC (4件)：

B01D 69/10 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/02 500 ,  H01M 8/06

FI (4件)：

B01D 69/10 ,  B01D 53/22 ,  B01D 71/02 500 ,  H01M 8/06 R

Fターム (18件)：

4D006GA41 ,  4D006MA03 ,  4D006MA07 ,  4D006MA09 ,  4D006MA22 ,  4D006MA31 ,  4D006MB04 ,  4D006MC02 ,  4D006MC02X ,  4D006NA31 ,  4D006NA49 ,  4D006PA01 ,  4D006PB20 ,  4D006PB63 ,  4D006PC80 ,  5H027AA02 ,  5H027BA01 ,  5H027BA16