特許
J-GLOBAL ID：200903091462092564
位相シフトマスク用ブランクおよび位相シフトマスク並びにその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-211078
公開番号（公開出願番号）：特開平5-053290
出願日： 1991年08月22日
公開日（公表日）： 1993年03月05日
要約：
【要約】【目的】位相シフトマスクの製造において、チャージアップ現象防止のために導電層を改めて設ける必要がなく、シフタ層をエッチングする際のエッチング終点が判り易い位相シフトマスク用ブランクおよび位相シフトマスクを提供する。【構成】透明支持基板上にエッチングストッパ層、シフタ層、導電層を順次設けた位相シフトマスク用ブランクをパターニングすることにより、位相シフトマスクを製造する。
請求項（抜粋）：
透明支持基板上にエッチングストッパ層、シフタ層、導電層を順次設けたことを特徴とする位相シフトマスク用ブランク。
IPC (2件)：
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