特許
J-GLOBAL ID：200903091471461068
光学薄膜製造システム
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
松岡 修平
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-061871
公開番号（公開出願番号）：特開平10-237646
出願日： 1997年02月28日
公開日（公表日）： 1998年09月08日
要約：
【要約】【目的】 薄膜の物理的膜構成が変わっても、薄膜構成に対応して製造装置を自動制御することが可能な光学薄膜製造システムを提供すること。【構成】 薄膜構成入力手段(205)と、薄膜製造知識ベース(201)と薄膜製造データベース(202)と薄膜製造推論エンジン(203)からなるエキスパートシステムを備え、薄膜構成に基づき、前記薄膜製造推論エンジンが、前記薄膜製造知識ベースおよび前記薄膜製造データベースの内容を参照して薄膜製造装置(600)における薄膜製造時の最適な蒸着条件を決定し、決定された蒸着条件に基づいて薄膜製造装置が動作する構成とした。
請求項（抜粋）：
薄膜の蒸着条件に従って光学薄膜を蒸着するための光学薄膜製造システムであって、薄膜構成入力手段と、薄膜製造知識ベースと薄膜製造データベースと薄膜製造推論エンジンを備え、前記薄膜構成に基づき、前記薄膜製造推論エンジンが、前記薄膜製造知識ベースおよび前記薄膜製造データベースの内容を参照して前記薄膜製造装置における薄膜製造時の最適な蒸着条件を決定する薄膜製造エキスパートシステムと、前記薄膜入力手段により入力された薄膜構成を、前記薄膜製造エキスパートシステムにより決定された蒸着条件のもとで製造する薄膜製造装置と、を有すること特徴とする光学薄膜製造システム。
IPC (4件)：
C23C 14/54
, C23C 14/24
, G02B 1/10
, G06F 13/10 330
C23C 14/54 Z
, C23C 14/24 U
, G06F 13/10 330
, G02B 1/10
