特許

J-GLOBAL ID：200903091476287783

流体浄化方法及び流体浄化装置

発明者： 西原 充幸
出願人/特許権者： 株式会社クボタ
代理人 (1件)： 北村 修
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-270196
公開番号（公開出願番号）：特開平7-116451
出願日： 1993年10月28日
公開日（公表日）： 1995年05月09日
要約：

【要約】【目的】 例えば排ガスの浄化を目的とした処理系において、連続操業が可能で、一旦、除去対象物を捕捉した状態にあっても除去対象物の分離がしやすい流体浄化方法及び流体浄化装置を得る。【構成】 処理対象物としての排ガスより塩化水素、イオウ酸化物を除去する場合に、排ガス路2の上流部位において、流路内に処理剤4を供給して除去対象物と処理剤4との反応により粉体3を生成し、下流部位において、生成される粉体3と反応しない材料であるゼオライト、セラミックボール、アンスラサイト、河砂等の粒状物6を、流路断面全面に亘って流路を横切って層状に流下させて、粉体3をこの粒状物6の層で捕捉し、流体流路外に搬出して除去対象物を除去する。

請求項（抜粋）：

除去対象物を含有する処理対象流体が流れる流体流路(2)から、前記除去対象物を除去する浄化方法であって、前記流体流路(2)の上流部位において、流路内に処理剤(4)を供給して前記除去対象物と前記処理剤(4)との反応により粉体(3)を生成し、前記流体流路(2)の下流部位において、生成される前記粉体(3)と反応しない粒状物(6)を前記流路断面全面に亘って流路を横切って層状に流下させて、前記粉体(3)を前記粒状物(6)の層で捕捉し、前記流体流路外に搬出して前記除去対象物を除去する流体浄化方法。

IPC (6件)：

B01D 53/34 ZAB ,  B01D 53/81 ZAB ,  B01D 53/50 ,  B01D 53/81 ,  B01D 53/68 ,  F27D 17/00 104

FI (3件)：

B01D 53/34 ZAB A ,  B01D 53/34 124 Z ,  B01D 53/34 134 A

引用特許：

審査官引用 (4件)

• 特開昭64-080425
  
• 特開昭63-185433
  
• 特開昭57-107231
  
• 特開昭55-137029