特許

J-GLOBAL ID：200903091481941149

チアゾリルベンゾフラン誘導体の製造方法

発明者： 西脇 正憲 ,  残華 淳彦 ,  窪田 有克 ,  五島 俊介
出願人/特許権者： 藤沢薬品工業株式会社
代理人 (1件)： 小谷 悦司 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-127396
公開番号（公開出願番号）：特開平10-316678
出願日： 1997年05月16日
公開日（公表日）： 1998年12月02日
要約：

【要約】【課題】 ロイコトリエン/SRS-A拮抗薬または阻害薬として有用なチアゾリルベンゾフラン誘導体またはその塩類(III)を、少ない工程数で効率よく製造することのできる方法を提供する。【解決手段】 式(I):【化1】で示される化合物または医薬として許容されるその塩類を、塩基の存在下に式(II)【化2】で示される化合物と反応させて、式(III)を得る方法である。

請求項（抜粋）：

式(I):【化1】[式中、R1 はハロゲン、低級アルキルアミノ若しくは低級アルキル(アシル)アミノで置換されていてもよい低級アルキル;シクロ(低級)アルキル;トリシクロアルキル;低級アルコキシで置換されていてもよいアリール;または複素環基、R2 は水素またはハロゲン、またはR1 とR2 が隣接原子と一緒になって、シクロアルケン環もしくはアシルで置換されていてもよいN含有複素環を形成する、R3 は水素、ハロゲン、ヒドロキシ、低級アルキルまたは低級アルコキシ、YはOまたはSを夫々意味する]で示される化合物または医薬として許容されるその塩類を、塩基の存在下に式(II)【化2】[式中、Aは低級アルキレン、Xは単結合または低級アルキレンを意味する]で示される化合物と反応させて、式(III )【化3】[式中、R1 、R2 、R3 、A、XおよびYは夫々前と同じ意味である]で示されるチアゾリルベンゾフラン誘導体または医薬として許容されるその塩類を得ることを特徴とするチアゾリルベンゾフラン誘導体またはその塩類の製造方法。

IPC (4件)：

C07D417/04 209 ,  C07D417/04 333 ,  A61K 31/425 ABF ,  A61K 31/425 AED

FI (4件)：

C07D417/04 209 ,  C07D417/04 333 ,  A61K 31/425 ABF ,  A61K 31/425 AED