特許
J-GLOBAL ID：200903091484024422
偏光に依存しないシリカ光回路の作製方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
岡部 正夫 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-095750
公開番号（公開出願番号）：特開平7-294763
出願日： 1995年04月21日
公開日（公表日）： 1995年11月10日
要約：
【要約】【目的】 本発明は、偏光に依存しないシリカ光回路の作製方法で提供する。【構成】 本発明に従うと、偏光に依存しない光デバイスが、シリコン基板上に導波路構造を形成し、ガラスの補強層を加え、導波路構造下のシリコン基板の領域を除去することにより作製される。あるいは、ガラスの補強層は、シリコンが除去された後、つけ加えられる。導波路構造下のシリコンを除去することによって、圧縮応力の源が除かれることにより、偏光に依存するスペクトル効果が除かれ、得られるガラス補強構造は、実際的用途に対し十分堅固である。
請求項（抜粋）：
基板を準備する工程;基板の一領域上に、光導波路構造を形成する工程;前記導波路構造上に、補強層を形成する工程;及び前記導波路構造の下の基板の前記領域を除去する工程;を含む集積光デバイスの作製方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G02B 6/12 M
, G02B 6/12 D
