特許
J-GLOBAL ID：200903091491884500

ポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該樹脂を合成するための化合物

発明者：
三枝 浩

三枝 浩 について


出願人/特許権者：
富士フイルム株式会社

富士フイルム株式会社 について


代理人 (3件)： 市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-189267
公開番号（公開出願番号）：特開2008-015422
出願日： 2006年07月10日
公開日（公表日）： 2008年01月24日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程に使用されるポジ型感光性組成物に於いて、100nm以下の微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネス、パターン倒れが改良されたポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該樹脂を合成するための化合物を提供する。【解決手段】(A)特定構造の繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂、及び、(B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有するポジ型感光性組成物、該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法、該ポジ型感光性組成物に用いられる樹脂及び該樹脂を合成するための化合物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)下記一般式(I)で表される繰り返し単位を有する、酸の作用により分解し、アルカリ現像液中での溶解度が増大する樹脂及び (B)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物 を含有することを特徴とするポジ型感光性組成物。
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  H01L 21/027 ,  C08F 20/54 ,  C08F 220/28
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R ,  C08F20/54 ,  C08F220/28
Fターム (35件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB15 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100AM21S ,  4J100BA03R ,  4J100BA11P ,  4J100BA12S ,  4J100BA18S ,  4J100BA20S ,  4J100BA40S ,  4J100BB12S ,  4J100BB18S ,  4J100BC04S ,  4J100BC09Q ,  4J100BC09R ,  4J100BC12Q ,  4J100BC12R ,  4J100BC53P ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (1件)
  • 感放射線性樹脂組成物
    公報種別：公開公報   出願番号：特願2000-401302   出願人：ジェイエスアール株式会社

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