特許

J-GLOBAL ID：200903091509864854

多層光学フィルムを形成するための方法及び装置

発明者： ウイリアム・ディー・スプロール ,  マイケル・エヴァンス・グラハム ,  トーマス・ジーン・パーハム ,  ラルフ・スベール・バーグマン ,  ランドルフ・イー・マックスウエル
出願人/特許権者： ゼネラル・エレクトリック・カンパニイ
代理人 (1件)： 生沼 徳二
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平7-169123
公開番号（公開出願番号）：特開平8-188873
出願日： 1995年07月05日
公開日（公表日）： 1996年07月23日
要約：

【要約】【目的】 少なくとも第1及び第2の材料を付着させることによって光学的品質の多層フィルムを形成するための方法および装置を提供する。【構成】 少なくとも2台の不平衡型直流マグネトロンスパッタリング装置(5)を用いてスパッタリングを行い、その際、有効な負の高周波バイアス電圧又は交流バイアス電圧が基体(10)に印加されると共に、アーク放電抑制装置(9)の動作によりスパッタリング装置からのアーク放電が抑制される。更にまた、スパッタ室内において所定の反応性ガス分圧を維持することにより、ターゲットに対して顕著な毒作用を及ぼすことなく基体上に所望の化合物を生成させるために十分な量の反応性ガスが供給される。

請求項（抜粋）：

少なくとも-60ボルトの負のバイアス電圧を印加した基体上に不平衡型直流マグネトロンスパッタリングによって誘電性材料を付着させる工程、並びに前記基体上に化学量論的な化合物を生成させるために十分であると共にターゲットに対して顕著な毒作用を及ぼすことのない量の反応性ガスを不活性ガスに添加して成るスパッタリング雰囲気を維持する工程を含むことを特徴とする多層被膜の形成方法。

IPC (3件)：

C23C 14/34 ,  C23C 14/35 ,  G02B 5/28