特許
J-GLOBAL ID：200903091512998519
レーザ光照射装置
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
京本 直樹 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平6-125530
公開番号（公開出願番号）：特開平7-328783
出願日： 1994年06月07日
公開日（公表日）： 1995年12月19日
要約：
【要約】【目的】 プリント基板や、LSIの実装基板への微細なビアホールを、高スループットで、簡便で安価な構成により実現できるビアホール形成用のレーザ光照射装置を提供する。【構成】 アルゴンレーザ1からの光を、光強度をオンオフする超音波空調器2とレンズ9を介して基板10に導く照射光学系と、レーザ光を基板全体に走査する走査系と、超音波偏向器8からなる副走査光学系と、副走査光学系を主走査系の走査を打ち消すよう動作させるタイミング制御ユニット11を有する。副走査系の逆走査方向により、主走査系の走査に伴うレーザ光照射装置のずれを抑えられる。
請求項（抜粋）：
レーザ光源と、レーザ光強度をオン・オフ変調する変調器と、出射レーザ光をレンズを介して、基板に導く照射光学系と、レーザ光を基板全体に渡って一様な速度で走査する主走査系と、前記主走査系に比べビーム偏向速度の加速度が大きな副走査系と、主走査系により、所望照射位置に、レーザ光が到達した時点より、所望の一定時間中、主走査系の走査を打ち消すよう副走査系を動作させるタイミング制御ユニットとを備えることを特徴とするレーザ光照射装置。
IPC (5件)：
B23K 26/08
, G02B 26/10
, G02F 1/33
, H01L 21/268
, H01L 21/027
H01L 21/30 502 D
, H01L 21/30 503
, H01L 21/30 521
