特許

J-GLOBAL ID：200903091517535738

反応槽の内壁面への活性物質の付着防止方法

発明者： 成瀬 文雄 ,  林 主税
出願人/特許権者： 日本真空技術株式会社
代理人 (1件)： 飯阪 泰雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-211602
公開番号（公開出願番号）：特開平5-032484
出願日： 1991年07月29日
公開日（公表日）： 1993年02月09日
要約：

【要約】[目的] 反応系から発生する種々の活性物質が反応槽の内壁面に付着するのを理想的な条件で防止することができる方法を提供すること。[構成] 円筒形状の本体2の中心軸線C-Cから径方向に第1の所定距離のところに多数の小孔8aを形成させたガス噴出壁体8を配設し、中心軸線C-Cより径方向に上記第1の所定距離より小さい第2の所定距離において蓋部材3には環状の開口3bが形成される。第1、第2の所定速度でアルゴンガスがそれぞれ小孔8a及び開口3bから径方向及び軸心方向に噴出する。

請求項（抜粋）：

円筒形状の内部空間を有し、その中心軸線に沿って、かつこの近傍に反応系を配設させた反応槽の前記中心軸線より径方向において第1の所定距離に多数の気体噴出口を形成させた円筒形状の気体噴出用壁体を配設し、前記中心軸線より径方向において、前記第1の所定距離より小さい第2の所定距離で一方の端壁部に環状の気体噴出用手段を配設し、前記気体噴出用壁体の気体噴出口から前記内部空間の径方向に不活性の第1の気体を第1の所定速度で噴出させ、前記気体噴出用手段から前記中心軸線に沿って不活性の第2の気体を第2の所定速度で噴出させるようにしたことを特徴とする反応槽の内壁面への活性物質の付着防止方法。