特許

J-GLOBAL ID：200903091521102285

洗浄水製造・供給システム及び製造・供給方法並びに洗浄システム

発明者： 呉 義烈 ,  三森 健一
出願人/特許権者： 株式会社フロンテック
代理人 (1件)： 福森 久夫
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-049491
公開番号（公開出願番号）：特開平10-244263
出願日： 1997年03月04日
公開日（公表日）： 1998年09月14日
要約：

【要約】【課題】 コンパクトであり、電極による汚染がない洗浄液による洗浄を行え、一つの工程で有機物の洗浄液とパーティクルの洗浄液を製造できる洗浄水製造・供給方法を提供する。【解決手段】 アノード室とカソード室とを有し、該アノード室においてO3ガスを発生させ、該カソード室においてH2ガスを発生させる電気分解槽と、該アノード室で発生したO3ガスを該アノード室外へ排出するO3ガス排出配管と、該O3ガス排出配管に接続されO3ガスを純水に溶解させO3水を製造するためのO3ガス溶解塔と、該O3ガス溶解塔からO3水を洗浄室へ導入するためのO3水配管と、該カソード室で発生したH2ガスを該カソード室外へ排出するH2ガス排出配管と、該H2ガス排出配管に接続されH2ガスを純水に溶解させH2水を製造するためのH2ガス溶解塔と、該H2ガス溶解塔からH2水を洗浄室へ導入するためのH2水配管と、を少なくとも有する。

請求項（抜粋）：

アノード室とカソード室とを有し、該アノード室においてO3(オゾン)ガスを発生させ、該カソード室においてH2(水素)ガスを発生させる電気分解槽と、該アノード室で発生したO3ガスを該アノード室外へ排出するO3ガス排出配管と、該O3ガス排出配管に接続されO3ガスを純水に溶解させO3水を製造するためのO3ガス溶解塔と、該O3ガス溶解塔からO3水を洗浄室へ導入するためのO3水配管と、該カソード室で発生したH2ガスを該カソード室外へ排出するH2ガス排出配管と、該H2ガス排出配管に接続されH2ガスを純水に溶解させH2水を製造するためのH2ガス溶解塔と、該H2ガス溶解塔からH2水を前記洗浄室へ導入するためのH2水配管と、を少なくとも有することを特徴とする洗浄水製造・供給システム。

IPC (3件)：

C02F 1/46 ,  B08B 3/08 ,  H01L 21/304 341

FI (3件)：

C02F 1/46 A ,  B08B 3/08 Z ,  H01L 21/304 341 L