特許
J-GLOBAL ID：200903091521615860
分子線源
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
高田 幸彦
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-304515
公開番号（公開出願番号）：特開平5-139882
出願日： 1991年11月20日
公開日（公表日）： 1993年06月08日
要約：
【要約】【目的】分子線源から発生させる分子線の強度分布を、原料の充填量にかかわらず安定化し再現性を良くする。【構成】分子線源のるつぼ1に孔4の開いたふた3をする。ふた3の内部あるいは表面にヒータ5を設け、これにより原料を加熱蒸発させる。ふた3が複数のときには、るつぼ1外から原料が見えないように、孔4を互い違いにする。【効果】分子線が凝着することがなく、孔が目づまりせず、分子線の分布が安定化する。また、Ga凝着物などの付着物を低減でき、膜に発生していた欠陥を低減することができる。
請求項（抜粋）：
るつぼと、分子線を噴出させるための穴を設けたふたと、前記るつぼ内の原料を加熱するためのヒータとからなる分子線源において、前記ふたの内部または表面にヒータを設けたことを特徴とする分子線源。
IPC (3件)：
C30B 23/08
, C23C 14/26
, H01L 21/203
