特許

J-GLOBAL ID：200903091525645275

積層膜の製造方法

発明者： 奥和田 久美
出願人/特許権者： 株式会社東芝
代理人 (1件)： 須山 佐一
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-019854
公開番号（公開出願番号）：特開平5-217814
出願日： 1992年02月05日
公開日（公表日）： 1993年08月27日
要約：

【要約】【目的】 デラミネーションのない、かつ均一な積層膜を、量産的に製造し得る方法の提供を目的とする。【構成】 支持基板面に所要の金属元素を含む化合物溶液を塗布する塗布工程と、前記塗布工程で形成された塗布層をアッシングする工程とを繰り返して積層膜を形成することを特徴とする。

請求項（抜粋）：

支持基板面に所要の金属元素を含む化合物溶液を塗布する塗布工程と、前記塗布工程で形成された塗布層をアッシングする工程とを繰り返すことを特徴とする積層膜の製造方法。

IPC (7件)：

H01G 13/00 391 ,  C01G 23/00 ,  C01G 25/00 ,  H01G 4/06 102 ,  H01G 4/10 ,  H01G 4/12 364 ,  C23C 18/14