特許

J-GLOBAL ID：200903091537739283

光学エレメントを決定して設計する方法

発明者： ルビンシユタイン,ヤコブ ,  ウーランスキイ,ジエルシヨン・モシエ
出願人/特許権者： インレイ・リミテツド
代理人 (1件)： 川口 義雄 (外3名)
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-584267
公開番号（公開出願番号）：特表2002-530711
出願日： 1999年11月03日
公開日（公表日）： 2002年09月17日
要約：

【要約】光学エレメント100の少なくとも1つの未知の表面のトポグラフィを決定又は設計する方法が、幾何学特性を測定又は規定するステップと、この幾何学的特性から積分の方程式の集合を決定するステップと、この積分の方程式の集合からこの少なくとも1つの未知の表面のトポグラフィを決定するステップとを含む。この積分の方程式の集合はまた、光学エレメント100の1つ或いは複数の光の屈折率から決定される。この測定又は規定された幾何学特性は、光学エレメント100に対する複数の入射光線102A、102B、102Cとこの少なくとも1つの未知の表面によって影響された対応する複数の光線との幾何学特性である。

請求項（抜粋）：

光学表面を決定する方法であって、 複数の光線に関するデータと影響された複数の光線に関するデータとを受け取るステップであり、前記光線の各々が、影響された個々の光線と関連しているステップと、 前記データから積分の方程式の集合を決定するステップと、 前記積分の方程式の集合から前記光学表面を決定するステップと を含む方法。

IPC (4件)：

G02B 3/10 ,  G02B 13/00 ,  G02B 17/00 ,  G06F 17/50 680

FI (4件)：

G02B 3/10 ,  G02B 13/00 ,  G02B 17/00 ,  G06F 17/50 680 A

Fターム (4件)：

2H087KA20 ,  2H087LA01 ,  2H087TA06 ,  5B046AA00