特許

J-GLOBAL ID：200903091541259318

クリーニングシ-ト、及びこれを用いた基板処理装置のクリーニング方法

発明者： 並河 亮 ,  寺田 好夫
出願人/特許権者： 日東電工株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-212843
公開番号（公開出願番号）：特開2002-028594
出願日： 2000年07月13日
公開日（公表日）： 2002年01月29日
要約：

【要約】【課題】 本発明は、例えば、半導体、フラットパネルディスプレイ、プリント基板などの製造装置や検査装置など、異物を嫌う基板処理装置のクリーニングシート及びクリーニング方法を提供する。【解決手段】 クリーニング層が、電石(エレクトレット)化された物質からなる、又は/及びクリーニング層の表面電位が、0.1〜10KVの範囲であるクリーニングシートである。

請求項（抜粋）：

クリーニング層が、電石(エレクトレット)化された物質からなるクリーニングシート。

IPC (4件)：

B08B 6/00 ,  B08B 7/00 ,  C08J 7/00 CER ,  C08L 33:04

FI (4件)：

B08B 6/00 ,  B08B 7/00 ,  C08J 7/00 CER Z ,  C08L 33:04

Fターム (9件)：

3B116AA47 ,  3B116BC01 ,  3B116BC07 ,  4F073AA18 ,  4F073BA18 ,  4F073BA24 ,  4F073BB01 ,  4F073CA21 ,  4F073GA07