特許

J-GLOBAL ID：200903091543112500

1,3-シクロヘキサジエンの製造法

発明者： 石田 浩 ,  小野 満司
出願人/特許権者： 旭化成工業株式会社
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-310264
公開番号（公開出願番号）：特開平7-165624
出願日： 1993年12月10日
公開日（公表日）： 1995年06月27日
要約：

【要約】【目的】 ポリマー原料として有用な1,3-シクロヘキサジエンを高選択率且つ高純度で製造する事を目的とする。【構成】 高純度1,3-シクロヘキサジエンを高選択率で製造するに当たって、以下の特徴を有する。1)原料が2ーシクロヘキセンー1ーオール、2ーシクロヘキセンー1ーオンを含む混合物である。2)上記混合物中のシクロヘキセンオキシドの濃度が5重量%以下で、且つシクロヘキセニルハイドロパーオキシドの濃度が4重量%以下である。3)上記混合物を気相脱水反応に供する。【効果】 極めて高純度の1,3-シクロヘキサジエンが高選択率で得られ、触媒の活性低下も少ない。

請求項（抜粋）：

2ーシクロヘキセンー1ーオール、2ーシクロヘキセンー1ーオンを含む混合物から気相脱水反応により1,3-シクロヘキサジエンを製造するにあたり、原料混合物中のシクロヘキセンオキシドの濃度が5重量%以下で且つシクロヘキセニルハイドロパーオキシドの濃度が4重量%以下であることを特徴とする1,3-シクロヘキサジエンの製造法。

IPC (6件)：

C07C 13/23 ,  B01J 27/18 ,  C07C 1/207 ,  C07C 1/24 ,  C07C 1/247 ,  C07B 61/00 300