基板処理装置

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：大坪隆司
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-024364
公開番号（公開出願番号）：特開2002-305173
出願日： 2002年01月31日
公開日（公表日）： 2002年10月18日
要約：

【要約】【課題】処理液の薬液成分が他の処理液の回収路に浸入することを防止しつつ、薬液成分を含むガスの外部への拡散を有効に防止することができる基板処理装置を提供することを目的とする。【解決手段】基板処理装置は、スピンチャック58に保持された基板Wに反応生成物を除去するための除去液を供給する第1ノズル41と、スピンチャック58に保持された基板Wに中間リンス液および純水を供給する第2ノズル42と基板Wから飛散する除去液、中間リンス液および純水を捕獲するための昇降カップ51および固定カップ52と、これらの昇降カップ51および固定カップ52内の雰囲気を排気する排気管35とを備える。基板Wの表面に除去液を供給して反応生成物を除去する際には、排気量調整弁60により、排気が弱められる。

請求項（抜粋）：

基板を回転可能に保持するスピンチャックと、前記スピンチャックに保持された基板に第1の処理液および第2の処理液の処理液を供給する処理液供給機構と、前記スピンチャックに保持されて回転する基板から飛散する第1の処理液および第2の処理液を捕獲するためのカップと、前記第1の処理液を回収するための前記カップに接続された第1の処理液回収管路と、前記第2の処理液を回収するための前記カップに接続された第2の処理液回収管路と、前記第1の処理液回収管路を介して前記カップ内の雰囲気を排気する排気手段と、前記第2の回収管路を利用して前記第2の処理液を回収する際に、前記第1の処理液回収管路を介しての前記カップ内の雰囲気の排気を弱める制御手段と、を備えることを特徴とする基板処理装置。

IPC (3件)：

H01L 21/304 643 , G03F 7/42 , H01L 21/027

FI (3件)：

H01L 21/304 643 A , G03F 7/42 , H01L 21/30 572 B

Fターム (7件)：

2H096AA25 , 2H096AA27 , 2H096LA06 , 2H096LA07 , 2H096LA30 , 5F046MA02 , 5F046MA10

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