半導体製造装置、及び半導体製造方法

発明者：
出願人/特許権者： ,
代理人 (1件)：恩田博宣 (外1名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-062241
公開番号（公開出願番号）：特開2002-270677
出願日： 2001年03月06日
公開日（公表日）： 2002年09月20日
要約：

【要約】【課題】基板に発生する反りを矯正し、該基板を破損させることなくステージに吸着保持させることができる半導体製造装置を提供する。【解決手段】ロールスクリーン装置11は、スクリーン12とそのスクリーン12を取着した一対のローラ13a,13bとを備える。ローラ13a,13bは、支持基板23を移動する駆動軸22a,22bに回転可能に支持され、該駆動軸22a,22bの移動に伴ってスクリーン12を展開又は巻取る。この一対のローラ13a,13bに展開されるスクリーン12によってウェハ2が覆われることにより、ウェハ2がステージ4の載置面3に押圧される。

請求項（抜粋）：

基板を載置面に吸着保持するステージと、前記ステージに搬送された基板を前記載置面に押圧して該基板に発生した反りを矯正するスクリーンと、前記スクリーンに取着され、該スクリーンを展開及び巻取可能とした一対のローラとを備えたことを特徴とする半導体製造装置。

IPC (3件)：

H01L 21/68 , H01L 21/304 622 , H01L 21/304

FI (3件)：

H01L 21/68 P , H01L 21/304 622 H , H01L 21/304 622 N

Fターム (15件)：

5F031CA02 , 5F031FA01 , 5F031FA07 , 5F031FA12 , 5F031GA24 , 5F031HA12 , 5F031HA13 , 5F031HA16 , 5F031HA53 , 5F031JA28 , 5F031JA33 , 5F031KA08 , 5F031KA12 , 5F031PA13 , 5F031PA20

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