特許
J-GLOBAL ID：200903091551347720
成形装置
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
森脇 正志
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-083792
公開番号（公開出願番号）：特開2007-253557
出願日： 2006年03月24日
公開日（公表日）： 2007年10月04日
要約：
【課題】高アスペクト比のナノサイズインプリントを可能にする新規な成形装置を提供する。【解決手段】下端にモールド14が取り付けられ垂直方向に移動するピストン11と、前記ピストンを内包するシリンダ12と、成形材を設置する下部プレート13と、前記ピストンを特定の水平方向に押圧する摺動性押圧部材を備え、前記ピストンが特定の水平方向に付勢された状態で垂直方向に上下して前記成形材に前記モールドを押圧することを特徴とする。 このような構成によると、成形動作時にシリンダが直線ガイドの役割を果たし、成形時と離型時のピストンの軌跡がずれにくくなり、高アスペクト比のナノサイズインプリントが可能になる。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
下端にモールドが取り付けられ垂直方向に移動するピストンと、前記ピストンを内包するシリンダと、成形材を設置する下部プレートと、前記ピストンを特定の水平方向に押圧する摺動性押圧部材を備え、前記ピストンが特定の水平方向に付勢された状態で垂直方向に上下して前記成形材に前記モールドを押圧することを特徴とする成形装置。
IPC (5件)：
B29C 59/02
, B29C 43/02
, B29C 43/56
, B29C 43/58
, H01L 21/027
B29C59/02 Z
, B29C43/02
, B29C43/56
, B29C43/58
, H01L21/30 502D
4F204AF01
, 4F204AG05
, 4F204AH33
, 4F204AH73
, 4F204AM28
, 4F204FA01
, 4F204FB01
, 4F204FQ00
, 4F204FQ01
, 4F204FQ02
, 4F204FQ09
, 4F204FQ15
, 4F209AF01
, 4F209AF05
, 4F209AH33
, 4F209AH73
, 4F209AM28
, 4F209PA02
, 4F209PB01
, 4F209PC01
, 4F209PC05
, 4F209PN06
, 4F209PN07
, 4F209PN13
, 4F209PQ11
, 5F046AA28
出願人引用 (6件)
-
ナノインプリント装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-331938
出願人：キヤノン株式会社
-
インプリントリソグラフィー用移動ステージ
公報種別：公開公報
出願番号：特願2001-267764
出願人：独立行政法人産業技術総合研究所
-
成形装置
公報種別：公開公報
出願番号：特願2003-147451
出願人：ペンタックス株式会社
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審査官引用 (3件)
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