高濃度水素及び高一酸化炭素濃度合成ガスの製造方法及び製造装置

発明者： , , , , , ,
出願人/特許権者： ,
代理人 (2件)：鈴江正二 , 木村俊之
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2007-022650
公開番号（公開出願番号）：特開2008-189480
出願日： 2007年02月01日
公開日（公表日）： 2008年08月21日
要約：

【課題】副次的生成物としての二酸化炭素を有効利用することができ、高濃度の水素ガスを取り出すことができるとともに、一酸化炭素濃度の高い合成ガスを得ることのできる製造方法及び製造装置を提供する。【解決手段】天然ガス等の炭化水素化合物の水蒸気改質で生成した改質ガスから二酸化炭素吸収材を用いて二酸化炭素を吸収除去し、ガス中の一酸化炭素と水蒸気とによる変成反応により、高濃度水素ガスを生成する第1工程と、前記二酸化炭素を吸収した二酸化炭素吸収材に、高温改質を行った水蒸気改質ガスまたは炭化水素化合物の部分酸化によって改質した改質ガスを第1工程よりも高温で流通させることにより、二酸化炭素吸収材の再生と逆シフト反応による高一酸化炭素濃度合成ガスを生成する第2工程を有する。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

炭化水素化合物を水蒸気改質することで得られた改質ガスから二酸化炭素吸収材を用いて二酸化炭素を吸収し、ガス中の一酸化炭素と水蒸気とによる変成反応により、高濃度水素ガスを生成する第1工程と、前記二酸化炭素を吸収した二酸化炭素吸収材に、炭化水素化合物を水蒸気改質することで得られた合成ガスまたは炭化水素化合物を部分酸化することで得られた合成ガスを第1工程よりも高温で流通させることにより、二酸化炭素吸収材から放出された二酸化炭素と合成ガスとの反応により一酸化炭素濃度の高い高一酸化炭素濃度合成ガスを生成する第2工程とを有することを特徴とする高濃度水素及び高一酸化炭素濃度合成ガスの製造方法。

IPC (6件)：

C01B 3/38 , C01B 3/48 , C01B 31/18 , B01J 20/34 , B01D 53/14 , B01J 20/06

FI (6件)：

C01B3/38 , C01B3/48 , C01B31/18 A , B01J20/34 F , B01D53/14 A , B01J20/06 C

Fターム (30件)：

4D020AA03 , 4D020BA01 , 4D020BA03 , 4D020BA08 , 4D020BB01 , 4D020BC01 , 4D020CA05 , 4D020CC01 , 4G066AA16B , 4G066AA23B , 4G066CA35 , 4G066DA04 , 4G066GA32 , 4G140EA03 , 4G140EA06 , 4G140EA07 , 4G140EB16 , 4G140EB32 , 4G140EB37 , 4G140EB41 , 4G140EB42 , 4G140EB43 , 4G146JA01 , 4G146JB02 , 4G146JB04 , 4G146JC01 , 4G146JC03 , 4G146JC18 , 4G146JC34 , 4G146JC39

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