特許
J-GLOBAL ID:200903091570469879

LCD用マイクロレンズの形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-282414
公開番号(公開出願番号):特開平9-101401
出願日: 1995年10月05日
公開日(公表日): 1997年04月15日
要約:
【要約】【課題】 ウェットエッチング法により簡易にLCD用マイクロレンズの基板加工を行う。【解決手段】 多結晶シリコン膜12をマスクとしてガラス基板11のウェットエッチングを行い、ガラス基板11上にマイクロレンズ面16を形成する。具体的には、ガラス基板11上にCVD法により多結晶シリコン膜12を形成したのち(図1(a))、多結晶シリコン膜12上に多数の開口14を有するフォトレジスト13を形成し(同図(b))、このフォトレジスト13をマスクとして多結晶シリコン膜12を選択的にエッチングして開口15を形成する(同図(c))。次に、開口15が形成された多結晶シリコン膜12をマスクとしてガラス基板11のウェットエッチングを行う(同図(d))。最後に、多結晶シリコン膜12を剥離し除去する(同図(e))。
請求項(抜粋):
マイクロレンズの母材となる透明基板上に多結晶シリコン膜を形成する工程と、この多結晶シリコン膜を選択的にエッチングして、マイクロレンズを形成しようとする部分の多結晶シリコン膜に開口を形成する工程と、前記開口の形成された多結晶シリコン膜をマスクとして前記透明基板をウェットエッチングし、前記開口を中心とする透明基板領域にマイクロレンズを形成する工程と、前記多結晶シリコン膜を剥離する工程とを含むことを特徴とするLCD用マイクロレンズの形成方法。
IPC (2件):
G02B 3/00 ,  G02F 1/1335
FI (2件):
G02B 3/00 A ,  G02F 1/1335

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