特許

J-GLOBAL ID：200903091572381367

薄膜コンデンサの製造方法

発明者： 粒崎 繁 ,  坂田 芳弘 ,  嶋本 昌司 ,  久米 信行
出願人/特許権者： 松下電器産業株式会社
代理人 (1件)： 小鍜治 明 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-265861
公開番号（公開出願番号）：特開平5-109577
出願日： 1991年10月15日
公開日（公表日）： 1993年04月30日
要約：

【要約】【目的】 真空中で形成される有機薄膜誘電体を用いた薄膜コンデンサの製造方法において、基体と保護膜の密着性を向上させて耐湿特性を安定させ機械的破壊を防止することを目的とする。【構成】 あらかじめ高分子材料あるいは高分子材料と無機材料との混合物のいずれか一つによりパターン形成した基体1を用い、真空中でこの基体1上に内部電極2と誘電体3を交互に積層した後、溶媒により基体1にパターン形成していた材料を溶解除去する方法により、基体1上には、内部電極2と誘電体3が交互に積層した鮮明なパターンを形成でき、特性を安定させ、従来例のマスクの使用による機械的破壊をなくすることができる。

請求項（抜粋）：

真空中で基体上に内部電極と誘電体を交互に積層した薄膜コンデンサであって、前記基体上にあらかじめ高分子材料あるいは高分子材料と無機材料との混合物のいずれか一つによりパターン形成する薄膜コンデンサの製造方法。

IPC (7件)：

H01G 4/06 102 ,  H01B 3/00 ,  H01B 3/30 ,  H01G 4/18 321 ,  H01G 4/20 ,  H01G 4/30 301 ,  H01G 4/30 311