特許
J-GLOBAL ID:200903091577081191

磁気ディスクおよび磁気ディスクの処理方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 萩野 平 (外3名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平7-226984
公開番号(公開出願番号):特開平9-054943
出願日: 1995年08月14日
公開日(公表日): 1997年02月25日
要約:
【要約】【課題】 安定して100MB以上の記録容量を保持させた磁気記録層を有する磁気ディスクおよびそれを得るための処理方法を提供すること。【解決手段】 ?@ 可撓性支持体に少なくとも磁気記録層を厚み1μm以下で設けた磁気ディスクにおいて、前記磁気記録層の表面の任意のA方向とA方向に垂直なB方向におけるRaがいずれも4.1nm以下であり、かつその差が0.3nm以下であることを特徴とする磁気ディスク、?A 可撓性支持体に磁気記録層を厚み1μm以下で設けた磁気ディスクの表面を、ディスク円周方向に、研磨層のRaが0.20μm以下の研磨テープでバーニッシュ処理することを特徴とする磁気ディスクの処理方法。
請求項(抜粋):
可撓性支持体に少なくとも磁気記録層を厚み1μm以下で設けた磁気ディスクにおいて、前記磁気記録層の表面の任意のA方向とA方向に垂直なB方向におけるRaがいずれも4.1nm以下であり、かつその差が0.3nm以下であることを特徴とする磁気ディスク。
IPC (3件):
G11B 5/82 ,  B24B 21/00 ,  G11B 5/84
FI (3件):
G11B 5/82 ,  B24B 21/00 B ,  G11B 5/84 A

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