特許

J-GLOBAL ID：200903091577312487

レジスト組成物

発明者： 高橋 表 ,  水谷 一良 ,  安波 昭一郎
出願人/特許権者： 富士写真フイルム株式会社
代理人 (5件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  栗宇 百合子
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-260267
公開番号（公開出願番号）：特開2004-101645
出願日： 2002年09月05日
公開日（公表日）： 2004年04月02日
要約：

【課題】活性光線又は放射線、特に電子線、X線又はEUV光の照射によるパターン形成に関して、孤立パターンプロファイルに優れ、レジストパターン表面上に異物が発生し難いレジスト組成物を提供する。【解決手段】(A1)特定の部分構造と、対イオンとを有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物及び(A2)特定の、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするレジスト組成物。【選択図】 なし

請求項（抜粋）：

(A1)下記一般式(1)で表される部分構造と、対イオンとを有する、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (A2)下記一般式(2)〜(6)で表される化合物から選ばれる、活性光線又は放射線の照射により酸を発生する少なくとも1種の化合物、 (B)アルカリ可溶性樹脂及び (C)酸の作用により(B)成分のアルカリ可溶性樹脂と付加反応をする架橋剤を含有することを特徴とするネガ型レジスト組成物。

IPC (4件)：

G03F7/004 ,  G03F7/038 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027

FI (4件)：

G03F7/004 503A ,  G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R

Fターム (21件)：

2H025AA03 ,  2H025AA04 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE07 ,  2H025BE08 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  2H025CC17 ,  2H025CC20 ,  2H025FA17