特許

J-GLOBAL ID：200903091578802607

硬化膜およびその製造法

発明者： 鈴木 正睦 ,  宇高 友広 ,  遠藤 昌之
出願人/特許権者： ジェイエスアール株式会社
代理人 (1件)： 大島 正孝
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平9-277128
公開番号（公開出願番号）：特開平11-114485
出願日： 1997年10月09日
公開日（公表日）： 1999年04月27日
要約：

【要約】【課題】 低誘電率で平坦度、耐熱性、耐溶剤性、透明性、絶縁性、プロセス許容性などに優れた硬化膜およびそれを製造する方法を提供すること【解決手段】 アルカリ可溶性、熱硬化性樹脂のパターン化された硬化膜および(1)基板上にアルカリ可溶性の熱硬化性樹脂組成物を塗布しそして50〜200°Cの温度でプレベークし、(2)その上に、感放射線性樹脂組成物を塗布しそして50〜200°Cの温度でベークし、(3)所定のマスクを介して放射線を照射しそして室温ないし200°Cの温度でベークし、(4)アルカリ性現像液で現像し、(5)工程(1)〜(3)で採用した温度よりも高い温度でベークしてアルカリ可溶性の熱硬化性樹脂の架橋による硬化を促進させ、(6)現像液に残った未露光部の全面に露光し、(7)アルカリ性現像液に浸漬しそして(8)100〜300°Cの温度に加熱してアルカリ可溶性の熱硬化性樹脂をパターン化する、ことを特徴とする硬化膜の製造法または上記工程(5)と工程(6)の前後を逆にした製造法。

請求項（抜粋）：

アルカリ可溶性の熱硬化性樹脂のパターン化された硬化膜。

IPC (6件)：

B05D 3/06 ,  H01L 21/027 ,  H01L 21/312 ,  G02F 1/1333 505 ,  G03F 7/11 502 ,  G03F 7/26 511

FI (7件)：

B05D 3/06 ,  H01L 21/312 D ,  G02F 1/1333 505 ,  G03F 7/11 502 ,  G03F 7/26 511 ,  H01L 21/30 566 ,  H01L 21/30 571

引用特許：

審査官引用 (2件)

• 耐熱性感放射線性樹脂組成物
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平4-198741   出願人：日本合成ゴム株式会社
• レジストパターンの形成方法及びこの方法を用いた半導体装置の製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願平7-249596   出願人：松下電子工業株式会社