特許
J-GLOBAL ID：200903091593582362
結晶配向の評価方法及びそれに用いる評価装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
船橋 國則
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-137099
公開番号（公開出願番号）：特開2002-333410
出願日： 2001年05月08日
公開日（公表日）： 2002年11月22日
要約：
【要約】【課題】 強い背景の散乱が重なっている場合であっても、効果的に背景の散乱を抑止し、測定データを読み取り可能な品質に高めることができ、しかも、その回折強度分布を、目的の面指数だけの強度に分離することができる結晶配向の評価方法及びそれに用いる評価装置を提供する。【解決手段】 評価の対象となる結晶試料における電子散乱の角度分布を測定するに際し、特定のエネルギー範囲の電子のみを用いて散乱線強度の方位分布を測定する。この測定処理によって得られた回折線強度の方位分布又は回折パターンの数値化データを用い、特定の結晶相と特定の格子面指数によって生じている回折線の強度成分を、数値処理によってそれ以外の背景強度成分から分離する。
請求項（抜粋）：
評価の対象となる結晶試料における電子散乱の角度分布を測定するに際し、特定のエネルギー範囲の電子のみを用いて散乱線強度の方位分布を測定する処理と、該測定処理によって得られた回折線強度の方位分布又は回折パターンの数値化データを用い、特定の結晶相と特定の格子面指数によって生じている回折線の強度成分を、それ以外の背景強度成分から分離する数値処理とを含むことを特徴とする結晶配向の評価方法。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G01N 23/207
, G11B 5/84 C
2G001AA03
, 2G001BA14
, 2G001BA18
, 2G001CA03
, 2G001DA09
, 2G001GA01
, 2G001GA13
, 2G001HA12
, 2G001KA08
, 2G001MA05
, 2G001RA08
, 5D112JJ01
