特許
J-GLOBAL ID：200903091597767456
投影露光装置
発明者：
出願人/特許権者：
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平5-010794
公開番号（公開出願番号）：特開平6-224106
出願日： 1993年01月26日
公開日（公表日）： 1994年08月12日
要約：
【要約】【目的】 コンタクトホールパターンの投影露光時の焦点深度を拡大する。【構成】 投影光学系PLの瞳面の中心円形領域を通過する結像光束LFaとその周辺の輪帯状領域を通過する結像光束LFbとの位相を反転させ、かつ中心円形部の振幅透過率を負とし、周辺部の振幅透過率とを正とする多重焦点フィルターMFFを設け、レチクルR上の所定間隔の2点の一方に対して他方で照明光のコヒーレンス係数を逆符号とするように照明条件を設定する設定手段(8)を設ける。
請求項（抜粋）：
少なくとも2つの微細のホール用パターンが形成されたマスクを、露光用の照明光で照射する照明系と、前記マスクのホール用パターンから発生した光を入射して前記ホール用パターンの像を感応基板上に結像投影する投影光学系とを備えた投影露光装置において、前記投影光学系内の前記マスクに対する光学的フーリエ変換面又はその近傍に、前記投影光学系の光軸を中心とする円形領域内の振幅透過率をt(-1≦t≦0)とし、前記円形領域外の振幅透過率をほぼ+1とする多重焦点フィルターと;前記ホール用パターン面における照明光のコヒーレンス関数が前記ホールパターン面上で所定間隔だけ離れた2つの位置の一方の位置に対して他方の位置でほぼ逆極性となるように、前記照明光のマスクへの入射角度範囲を設定する設定部材とを設けたことを特徴とする投影露光装置。
IPC (2件)：
H01L 21/027
, G03F 7/20 521
