特許

J-GLOBAL ID：200903091603442840

分光分析装置

発明者： 松澤 修
出願人/特許権者： セイコーインスツルメンツ株式会社
代理人 (1件)： 林 敬之助
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-164337
公開番号（公開出願番号）：特開2000-352556
出願日： 1999年06月10日
公開日（公表日）： 2000年12月19日
要約：

【要約】【課題】 適当な露光時間が0.1秒程度の強い光のピークを測定する場合、再現性の良い測定結果 を得るためには、機械的シャッターの開放時間を0.001秒オーダーで制御しなければなら ず、困難であった。【解決手段】 分光分析装置用分光器において、光路に光絞り手段を設けることで光束の一部を遮蔽し、二次元検出器に結像する光の強度を制御することによって、機械的シャッターの開放時間を長くできるようにした。

請求項（抜粋）：

試料を励起する光源と、光源により励起、発光した光を入口スリットへ集光する入射光学系と、入口スリットからの光を平行光線に変換するコリメーティングミラーと、平行光線を分光する波長分散素子と、分光された光を収束光に変換するカメラミラーと、結像面に配置され分光された光を検出する二次元面検出器とから構成される分光分析装置において、分光される前の光路上に、光束の一部を遮蔽する光絞り手段を備えていることを特徴とする分光分析装置。

Fターム (10件)：

2G043AA01 ,  2G043EA08 ,  2G043GA04 ,  2G043GB02 ,  2G043GB19 ,  2G043HA01 ,  2G043HA03 ,  2G043JA04 ,  2G043LA03 ,  2G043NA13