特許
J-GLOBAL ID：200903091604887608
プラズマエッチング用電極及びプラズマエッチング装置
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
吉田 研二 (外2名)
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平8-090782
公開番号（公開出願番号）：特開平9-283493
出願日： 1996年04月12日
公開日（公表日）： 1997年10月31日
要約：
【要約】【課題】 プラズマエッチング装置に配設される電極において、ガス供給孔の開口縁部に発生する電界集中による異常放電を防止し、局部的な腐食を防止する。プラズマエッチング装置において、ダストの発生を防止し、不良品の発生を防止する。【解決手段】 上部電極2のガス供給孔21の放電ギャップ側の開口縁部が局部的な電界集中の発生を防止する凸型曲面形状R1で形成される。この上部電極2はプラズマエッチング装置のチャンバ室内部に配設される。
請求項（抜粋）：
対向する電極との間の放電ギャップにプラズマ化されるエッチング用ガスを供給するガス供給孔を有するプラズマエッチング用電極において、前記ガス供給孔の放電ギャップ側の開口縁部を局部的な電界集中の発生を防止する凸型曲面形状で形成したことを特徴とするプラズマエッチング用電極。
IPC (2件)：
FI (2件)：
H01L 21/302 B
, C23F 4/00 A
