特許
J-GLOBAL ID：200903091620699170
TABテープの製造方法およびフオトマスク
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
押田 良久
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平3-331377
公開番号（公開出願番号）：特開平5-144886
出願日： 1991年11月20日
公開日（公表日）： 1993年06月11日
要約：
【要約】【目的】 TABテープの製造過程で形成される銅箔上に塗布してできるレジスト両端部の盛り上がり部分を、現像工程でレジストが完全に除去して配線パターンとのショート等の不良原因を無くすテープの製造方法を提供する。【構成】 フォトレジスト4の両端部の盛り上がり部5を選択的に露光するようにして、配線パターン部6には最適な露光量でフォトレジスト4を強制的に除去するようにした工程をTABテープの製造過程に含めるようにしたことを特徴とする。
請求項（抜粋）：
テープ状の可撓性絶縁フィルム上に銅箔を張り合わせ、この銅箔にフォトレジストを塗布し露光現像を行なう際、フォトレジストの両端部を選択的に露光し、フォトレジストを強制的に除去する工程を含むことを特徴とするTABテープの製造方法。
IPC (3件)：
H01L 21/60 311
, H01L 21/027
, H01L 21/302
