特許
J-GLOBAL ID：200903091634463004

ディップ成形用ラテックス、ディップ成形用組成物およびディップ成形物

発明者：
太田 久紀

太田 久紀 について

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相原 俊仁

相原 俊仁 について

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児玉 和美

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出願人/特許権者：
日本ゼオン株式会社

日本ゼオン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2002-142621
公開番号（公開出願番号）：特開2003-342303
出願日： 2002年05月17日
公開日（公表日）： 2003年12月03日
要約：
【要約】【課題】 風合いに優れ、十分な引張強度を有し、かつ密着状態の持続性に優れるディップ成形物、該ディップ成形物を与えるディップ成形用組成物、および該ディップ成形組成物に使用するディップ成形用ラテックスを提供する。【解決手段】 特定組成の、1,3-ブタジエン、アクリロニトリル、メタクリル酸からなる単量体混合物を共重合するに際し、アクリルニトリルの一部とメタクリル酸の一部とを、重合開始後に重合反応系に添加して共重合して得られるカルボキシ変性アクリロニトリル-ブタジエン共重合体ラテックス。
請求項（抜粋）：
共役ジエン単量体50〜89.5重量部、エチレン性不飽和ニトリル単量体10〜40重量部、エチレン性不飽和酸単量体0.5〜10重量部およびこれらと共重合可能なその他のエチレン性不飽和単量体0〜19.5重量部からなる単量体混合物100重量部を共重合して得られるディップ成形用ラテックスであって、重合に使用する単量体のうち、共役ジエン単量体の80重量%以上、エチレン性不飽和ニトリル単量体の50〜90重量%、エチレン性不飽和酸単量体の40〜90重量%およびこれらと共重合可能なその他のエチレン性不飽和単量体の80重量%以上を含む単量体混合物を用いて重合を開始し、その後、重合反応系内の全単量体についての重合転化率が5〜95重量%の範囲にある時に残余のエチレン性不飽和ニトリル単量体と残余のエチレン性不飽和酸単量体とを添加し、かつ、残余の共役ジエン単量体およびこれらと共重合可能なその他のエチレン性不飽和単量体は、重合反応を停止するまでに添加を完了して共重合することを特徴とするディップ成形用ラテックス。
IPC (3件)：
C08F 2/00 ,  C08F236/00 510 ,  C08J 5/02 CEQ
FI (3件)：
C08F 2/00 A ,  C08F236/00 510 ,  C08J 5/02 CEQ
Fターム (17件)：
4F071AA12 ,  4F071AE02 ,  4F071AE03 ,  4F071AF15 ,  4F071AH05 ,  4F071AH19 ,  4F071BA05 ,  4F071BB02 ,  4F071BB10 ,  4F071BC01 ,  4F071BC04 ,  4J011AA05 ,  4J011BA06 ,  4J011BB01 ,  4J011BB07 ,  4J011KB00 ,  4J011KB13
引用特許：
審査官引用 (2件)

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