特許
J-GLOBAL ID:200903091635772396

真空乾燥処理装置

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (2件): 松尾 憲一郎 ,  内野 美洋
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-182421
公開番号(公開出願番号):特開2004-028388
出願日: 2002年06月24日
公開日(公表日): 2004年01月29日
要約:
【課題】汎用性をもたせ、かつランニングコストを低減して容易に利用することのできる真空乾燥処理装置を提供すること。【解決手段】下端側を貯湯槽(1a)とし、内部を真空ポンプ(5)に接続した本体(1)と、同本体(1)内の貯湯槽(1a)の上方に配置され内部に被処理物(M)を収納した処理室(2)と、同処理室(2)に連通させた真空ポンプ(6)と、前記貯湯槽(1a)内に配置した熱交換器(3)を具備するヒートポンプユニット(4)とを備え、前記貯湯槽(1a)の熱媒水(W)を前記ヒートポンプユニット(4)によって加熱して、熱媒水(W)の蒸気により前記処理室(2)の表面を加熱する構成とした。【選択図】 図1
請求項(抜粋):
下端側を貯湯槽とし、内部を真空ポンプに接続した本体と、同本体内の貯湯槽の上方に配置され内部に被処理物を収納した処理室と、同処理室に連通させた真空ポンプと、前記貯湯槽内に配置した熱交換器を具備するヒートポンプユニットとを備え、 前記貯湯槽の熱媒水を前記ヒートポンプユニットによって加熱して、熱媒水の蒸気により前記処理室の表面を加熱する構成としたことを特徴とする真空乾燥処理装置。
IPC (4件):
F26B5/04 ,  B09B3/00 ,  F26B3/18 ,  F26B11/16
FI (4件):
F26B5/04 ,  F26B3/18 ,  F26B11/16 ,  B09B3/00 303M
Fターム (18件):
3L113AA07 ,  3L113AB06 ,  3L113AC22 ,  3L113AC24 ,  3L113AC58 ,  3L113AC67 ,  3L113BA01 ,  3L113DA02 ,  3L113DA21 ,  4D004AA03 ,  4D004AB01 ,  4D004AC02 ,  4D004CA42 ,  4D004CB04 ,  4D004CB21 ,  4D004CB28 ,  4D004CB31 ,  4D004CB50

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