特許

J-GLOBAL ID：200903091645548818

プラズマ処理装置

発明者： 田代 征仁 ,  奥村 裕 ,  竹居 滋郎 ,  飯村 幸夫
出願人/特許権者： 株式会社エフオーアイ ,  大日本印刷株式会社
代理人 (1件)： 佐藤 香
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平11-155947
公開番号（公開出願番号）：特開2000-342957
出願日： 1999年06月03日
公開日（公表日）： 2000年12月12日
要約：

【要約】【課題】可撓性の薄物を適切に処理して作業性も良いプラズマ処理装置を実現する。【解決手段】被処理物を縦にしてプラズマに曝すプラズマ処理装置において、被処理物を載せる電極24が開閉可能な側板22に設けられる。これにより、側板22を開閉して電極24を出し入れできるので、摺動部や転動部等が真空チャンバ内21に無くても真空チャンバ外での作業が可能となる。また、側板22を複数の扉(A,B)にすることで、電極24の交換も側板22の開閉を利用して容易に行われるので、作業性が一層良くなる。

請求項（抜粋）：

被処理物を縦にしてプラズマに曝すプラズマ処理装置において、前記被処理物を載せる電極が開閉可能な側板に設けられていることを特徴とするプラズマ処理装置。

IPC (4件)：

B01J 19/08 ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/3065

FI (4件)：

B01J 19/08 H ,  C23C 16/50 ,  H01L 21/205 ,  H01L 21/302 C

Fターム (37件)：

4G075AA24 ,  4G075BC04 ,  4G075BC06 ,  4G075CA47 ,  4G075DA01 ,  4G075EB01 ,  4G075EC21 ,  4G075EC30 ,  4K030CA12 ,  4K030DA03 ,  4K030FA01 ,  4K030GA03 ,  5F004AA16 ,  5F004BA04 ,  5F004BB07 ,  5F004BB11 ,  5F004BB16 ,  5F004BB21 ,  5F004BB32 ,  5F004BC02 ,  5F004BC08 ,  5F004BD01 ,  5F004BD04 ,  5F004CA05 ,  5F004DA17 ,  5F004DA25 ,  5F004DA26 ,  5F004DB25 ,  5F045AA08 ,  5F045DP11 ,  5F045DP13 ,  5F045EB02 ,  5F045EC01 ,  5F045EH07 ,  5F045EH13 ,  5F045EM03 ,  5F045EN04