特許
J-GLOBAL ID：200903091659754321
シリコン構造体とガラス構造体の接合法及びそれを用いた力学量センサ
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
加藤 一男
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願平4-341707
公開番号（公開出願番号）：特開平6-169095
出願日： 1992年11月27日
公開日（公表日）： 1994年06月14日
要約：
【要約】【目的】シリコン構造体とガラス構造体を接合する接合方法及びこの方法を用いて電極間空隙を制御性良く作製する高精度の力学量センサである。【構成】シリコン基板13の一部をエッチングしたシリコン構造体13、14、15と溝11c、11dを形成したガラス構造体11a、12a;11b、12bを陽極接合で接合して力学量を検知する力学量センサを作製する。ガラス構造体は、金属イオンを含有したガラス基板11a、11b上にガラス薄膜12a、12bを成膜し、このガラス薄膜をエッチングすることによって溝11c、11dを形成して成る。平滑で深さ制御性も良い溝11c、11dが得られ、電極16a、16b間空隙dが制御性良く得られる
請求項（抜粋）：
シリコンとガラス構造体を接合する方法において、前記ガラス構造体は、金属イオンを含有したガラス基板上にガラス薄膜を成膜して成り、シリコンとガラス構造体を陽極接合で接合することを特徴とする接合法。
IPC (5件)：
H01L 29/84
, G01L 1/00
, G01P 15/09
, H01L 21/02
, H01S 3/18
